ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟

来源 :城市道桥与防洪 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ztgu8p

【摘要】

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以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q

【作者】

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谭满清陆建祖李玉鉴

【机构】

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中国科学院半导体研究所工程中心,北京100083

【出处】

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城市道桥与防洪

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

ECRPlasmaCVD 人工神经网络气流配比折射率淀积速率

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以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)关系的数学模型,此模型在给定气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)时所预测的成模折射率跟实验值符合得很好,为ECRPlasmaCVD淀积全介质光学膜的工艺打下坚实的基础.

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