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电子束光刻技术具有极高的分辨率，其直写式曝光系统甚至可达到几纳米的加工能力。本文重点对不同的抗蚀剂、电子束／光学系统的混合光刻及邻近效应修正等技术进行了研究。
纳米级电子束直写曝光的基础工艺
【摘 要】
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电子束光刻技术具有极高的分辨率，其直写式曝光系统甚至可达到几纳米的加工能力。本文重点对不同的抗蚀剂、电子束／光学系统的混合光刻及邻近效应修正等技术进行了研究。
【机 构】
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中国科学院微电子中心
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2003年B05期
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