【摘 要】
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电子束光刻技术具有极高的分辨率,其直写式曝光系统甚至可达到几纳米的加工能力。本文重点对不同的抗蚀剂、电子束/光学系统的混合光刻及邻近效应修正等技术进行了研究。
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电子束光刻技术具有极高的分辨率,其直写式曝光系统甚至可达到几纳米的加工能力。本文重点对不同的抗蚀剂、电子束/光学系统的混合光刻及邻近效应修正等技术进行了研究。
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