NiCr溅射薄膜内应力的研究

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本文采用磁控溅射法在0.5mm厚的40Cr钢基片上沉积1 ̄12μm的NiCr合金薄膜,运用钠光平面干涉法测量NiCr溅射薄膜的内应在力,研究表明影响NiCr薄膜内应力的主要因素是工作气压和基片温度,并运用Klokolm理论对该影响作用进行了分析。
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