【摘 要】
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采用化学溶液法以LaNiO3为底电极在Si（100）衬底上生长了Bi2NiMnO6薄膜,分别在N2和O2下对薄膜进行退火,退火温度均为600℃,研究不同退火气氛对薄膜结构与电性能的影响.用XRD测量
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(10774030,11032010);广东省高教基金资助项目(2012KJCX0044)
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采用化学溶液法以LaNiO3为底电极在Si（100）衬底上生长了Bi2NiMnO6薄膜,分别在N2和O2下对薄膜进行退火,退火温度均为600℃,研究不同退火气氛对薄膜结构与电性能的影响.用XRD测量分析了Bi2NiMnO6薄膜的结构,用铁电性能测量仪表征了样品的铁电性能和漏电流特性.结果表明,在N2或O2气氛下,Bi2NiMnO6薄膜均能成相,所有样品在室温下均表现出铁电性能,同时,这些样品都呈现出相当低的漏电流密度.此外,还讨论了Bi2NiMnO6薄膜的导电机制.
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