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本文介绍了四轴激光直接写入系统，对激光直接在光刻胶上写入图形的工艺进行了研究，讨论了在不同离焦情况下，胶层内光斑的大小和强度分布，采用离焦的方法在光刻胶上刻画了周期为20μm的线光栅和线宽为10μm的分划板，对实验结果进行了分析。
激光直接写入工艺的研究
【摘 要】
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本文介绍了四轴激光直接写入系统，对激光直接在光刻胶上写入图形的工艺进行了研究，讨论了在不同离焦情况下，胶层内光斑的大小和强度分布，采用离焦的方法在光刻胶上刻画了周期为20
【机 构】
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中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所十七实验室
【出 处】
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光电子．激光
【发表日期】
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2001年9期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目 ( 6 0 0 780 0 6 )
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