磁流变抛光超光滑光学表面

来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ARCHERY6805068
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研究了利用初始粘度达到0.5 Pa·s、具有相对大范围稳定性的标准磁流变抛光液,并结合设计独特的公自转组合运动永磁抛光轮进行了试验,对抛光过程中的主要参量包括抛光轮与工件之间间隙、抛光轮与工件之间相对运动速度、氧化铈浓度及抛光时间对材料去除特性的影响进行了研究.磁流变抛光对工件(K9玻璃)表面粗糙度提高效果的抛光试验结果证明,该套系统具有良好的抛光特性,抛光28 min后工件表面粗糙度由最初的1O.98 nm收敛到0.631 5 nm,获得了超光滑量级的抛光表面.
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