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目的：用三丁基磷酸酯化学修饰电极伏安法研究痕量黄嘌呤的测定。方法：在ｐＨ９．５的ＮＨ４ＯＨ－ＮＨ４Ｃｌ缓冲溶液中，黄嘌呤在该化学修饰电极上于０．５０Ｖ（ｖｓ．ＳＣＥ）左右产生一灵敏的氧化峰。结果：化学修饰膜选择性先富集黄嘌呤，峰电流与浓度２．６３×１０＾－７～７．８９×１０＾－４ｍｏｌ·Ｌ＾－１呈线性关系，检出限为６．５７×１０＾－８ｍｏｌ·Ｌ＾－１。结论：本法适用于血清、人尿中痕量黄嘌呤的测定。