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采用多靶轮流溅射技术,用Ti和六方氮化硼反应合成了Ti-B-N薄膜,采用XRD,TEM和显微硬度计研究了薄膜的的微结构及其力学性能。结果表明,室温下沉积的Ti-B-N薄膜为非晶体的Ti(N,B)化合物,其硬度达到HK2470,高温下沉积的薄膜为TiN结构类型的Ti(N,B)晶体,薄膜在晶化后硬度略有降低。