镀制工艺对TiO2光学膜层折射率影响研究

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研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对TiO2膜层折射率的影响。研究表明,随着基底温度升高,TiO2光学膜层折射率呈上升趋势;随着沉积速率提高,TiO2膜层折射率存在极值;采用离子束辅助沉积工艺,可以有效提高TiO2膜层折射率值,所制备的TiO2膜为非晶态结构,具有较高的折射率和较小的光学损耗。
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