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<正> 7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了保证它们之间的紧密接触,还要抽真空,利用大气压力,将掩模板均匀地压在光致抗蚀剂涂层上曝光。
非互易律光致抗蚀与负型黑底（续一）
【摘 要】
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<正> 7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了保证它们之间的紧密接触,还要抽真空,利用大
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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1993年5期
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