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本文提出一种利用基于DMD(数字微反射镜装置)的数字光刻系统制作掩模版的方法。首先通过ATUOCAD制图软件制作出二元光栅、龙基......
本文介绍我们把相移掩模光刻技术和准分子激光光刻技术结合起来进行的进一步提高光刻分辨力,扩展光学光刻极限的研究.包括Levenson......
利用非互易律光致抗蚀剂在低照度下曝光,其光化学反应速度急剧下降效应,不仅可以提高光刻工艺的分辨率,而且可通过选定必要的曝光......
<正> 7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了......
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近年来有幸赴美国、日本、法国、德国、瑞士、意大利等国家参观了国际网印展览会,也参观了这些国家的一些网印厂和网印材料、设备......
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X射线光刻是一种能满足下世纪初超大规模集成电路(VLSI)生产的深亚微米图形加工技术。论述了这种光刻技术的发展历史及近年来的主要进展。......