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采用Ti/Mo复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-Mo-N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究,结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti,Mo)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyMo1-7)N/(Ti,Mo)2N,并具有较高的显微硬度、耐磨性和极低的孔隙率,在800℃具有很好的抗氧化性能。在沉积过程中存在着多元合金膜层与合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关。