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采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在(100)单晶硅表面制备Si-N—O薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)表征薄膜的成分结构;用血小板粘附试验表征薄膜结构对薄膜血液相容性的影响。研究结果表明,以无机Si为主的Si—N—O薄膜,其血液相容性较差;键舍少量O的Si3N4薄膜,其血液相容性较佳。Si—N—O薄膜中N含量和O含量的变化,是导致薄膜结构变化的重要因素。