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灰度掩模法是一种新的二元光学器件制做方法.研究了并行激光直写高性能灰度掩模的工作原理,对空间光调制器(SML)、精缩投影物镜和二维气浮平台等关键单元进行了分析,给出了并行激光直写系统的主要技术指标和初步实验结果.
灰度掩模并行激光直写系统的总体设计
【摘 要】
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灰度掩模法是一种新的二元光学器件制做方法.研究了并行激光直写高性能灰度掩模的工作原理,对空间光调制器(SML)、精缩投影物镜和二维气浮平台等关键单元进行了分析,给出了并
【机 构】
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国防科技大学机电工程与自动化学院
【出 处】
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光电子·激光
【发表日期】
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2002年6期
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