【摘 要】
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为了缓解LDMOS中比导通电阻与击穿电压之间的矛盾关系,提出了一种具有2层堆叠结构的LDMOS器件。该结构由2个独立的LDMOS器件堆叠形成,因而在此器件导通时,2个LDMOS的漂移区形成了2条电流路径,且由于上层LDMOS的衬底能够将2条电流路径隔离,从而使得2条路径上的电流独立工作而不互相干扰,进而提高器件的导通电流。另外,上层LDMOS的漂移区能够同时被其衬底以及内部的P埋层和P浮空层耗尽,下层LDMOS的漂移区也能同时被上下两层LDMOS的衬底耗尽,于是上下两层LDMOS的漂移区浓度得到了较大提升
【基金项目】
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国家自然科学基金(61464003,61874036),广西自然科学基金(2018GXNSFAA281201),桂林电子科技大学研究生教育创新计划(2020YCXS033)。
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为了缓解LDMOS中比导通电阻与击穿电压之间的矛盾关系,提出了一种具有2层堆叠结构的LDMOS器件。该结构由2个独立的LDMOS器件堆叠形成,因而在此器件导通时,2个LDMOS的漂移区形成了2条电流路径,且由于上层LDMOS的衬底能够将2条电流路径隔离,从而使得2条路径上的电流独立工作而不互相干扰,进而提高器件的导通电流。另外,上层LDMOS的漂移区能够同时被其衬底以及内部的P埋层和P浮空层耗尽,下层LDMOS的漂移区也能同时被上下两层LDMOS的衬底耗尽,于是上下两层LDMOS的漂移区浓度得到了较大提升
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