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在现代大型薄膜连续生产线中，其生产效率主要受以下两因数的影响；溅射器的速率和靶材的使用周期，本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转，并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成，并给实验结果与结论。其具有靶材利用率高，使用周期长，换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层，提高了溅射过程的稳定性。