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<正> 问题的提出 随着半导体工艺水平的不断发展,集成度的提高以及图形尺寸的缩小,对离子注入机也提出了更高的要求,特别是对束流强度、扫描面积、注人剂量、均匀性、重复性等方面更有新的要求。
液体氟里昂（F113）冷却装置在注入机上的应用
【摘 要】
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<正> 问题的提出 随着半导体工艺水平的不断发展,集成度的提高以及图形尺寸的缩小,对离子注入机也提出了更高的要求,特别是对束流强度、扫描面积、注人剂量、均匀性、重复性
【机 构】
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国营建光机器厂
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1989年4期
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