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高熵合金氮化物薄膜性能优异，目前国内对A10.3CrFe1.5MnNi0.5高熵合金的研究主要是对块体，对薄膜研究较少。采用直流磁控溅射技术在硅片上沉积了Al0.3CrFe1.5MnNi0.5高熵合金氮化物薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、纳米压痕仪等分析了基板偏压对薄膜的晶体结构、溅射效率、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明：基板偏压为-50V时，薄膜的晶体结构为面心立方结构（FCC），薄膜截面有明显的柱状结构；随着偏压幅值的增加，衍射峰的强度降低，晶粒尺寸减小，薄膜的溅射效率