较薄坡莫合金薄膜的磁性能和结构

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sophieyeah

【摘要】

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基于辉光放电原理在不同的溅射气压下制备的NiFe薄膜,发现较低溅射气压下比较高溅射气压下制备的NiFe薄膜的磁性能要好得多.较低溅射气压下制备的NiFe(12 nm)薄膜,各向异性磁

【作者】

：

于广华赵洪辰朱逢吾夏洋

【机构】

：

北京科技大学材料物理系,中国科学院微电子中心

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

2001年5期

【关键词】

：

NiFe薄膜各向异性磁电阻矫顽力内应力坡莫合金薄膜溅射镍铁合金薄膜结构 NiFe thin film Anistropic magnetoresi

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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基于辉光放电原理在不同的溅射气压下制备的NiFe薄膜,发现较低溅射气压下比较高溅射气压下制备的NiFe薄膜的磁性能要好得多.较低溅射气压下制备的NiFe(12 nm)薄膜,各向异性磁电阻(AMR)值达到1.2%,而其矫顽力却只有127.4 A/m.结构分析表明:较低溅射气压下制备的NiFe薄膜结构缺陷较少,内应力小;而较高溅射气压下制备的NiFe薄膜结构缺陷较多,内应力大.

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