论文部分内容阅读
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）方法，在反应气压、衬底温度一定的情况下，通过改变碳源浓度以制备低粗糙度金刚石薄膜．扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）测试结果表明，随着碳源浓度适当增加（从2％增加到3％），金刚石薄膜表面晶粒尺寸减小到纳米量级，平均粗糙度从45nm降低到21nm，同时光学透过率下降．椭圆偏振光谱拟合结果显示，随着碳源浓度的增加，薄膜折射率n稍有偏离理想值．拉曼散射光谱显示随着碳源浓度的增加，薄膜中非金刚石相含量增加，一定程度上影响了薄膜的光学质量．结果表明，在表面粗糙度相差不大的情