硼硅玻璃与单晶硅场致扩散连接形成机理分析

来源 :金属热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：soton0001

【摘要】

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以固体电解质硼硅玻璃与单晶硅为实验材料,研究了玻璃-金属FDB连接过渡区的微观组织特征,分析了连接形成机理及主要工艺参数对连接过程的影响.提出了金属-氧化物过渡层-玻璃

【作者】

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孟庆森张莉娜喻萍薛锦

【机构】

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西安交通大学焊接研究所,西安交通大学焊接研究所

【出处】

：

金属热处理学报

【发表日期】

：

2001年4期

【关键词】

：

场致扩散焊过渡区单晶硅硼硅玻璃 glass silicon fieldassisted bonding transitional area

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以固体电解质硼硅玻璃与单晶硅为实验材料,研究了玻璃-金属FDB连接过渡区的微观组织特征,分析了连接形成机理及主要工艺参数对连接过程的影响.提出了金属-氧化物过渡层-玻璃接头结构形式及静电场条件下离子扩散及接合模型.研究认为,金属玻璃的界面接合归因于玻璃中负氧离子的扩散及界面复合氧化物的形成;呈横向柱状组织的复合氧化物对连接强度具有重要意义.

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