反应溅射制备MoO3薄膜及其光学和电致变色性能研究

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本文采用磁控溅射方法,通过金属钼靶材在Ar+O2气氛中反应溅射制备了氧化钼薄膜。在制备样品过程中改变反应气氛O2的流量,保持其它参数不变,得到不同的氧化钼薄膜。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)方法对MoO3薄膜样品结构进行表征。XRD测试结果表明MoO3薄膜样品均为非晶结构。MoO3薄膜样品的光学性能和电致变色性能采用分光光度计进行测试研究。研究结果表明,当反应气氛O2/Ar流量比例为1:5时,所制备的样品具有较高的可见光透射率,可见光平均透射率为90%,并且电致变色性能较好,调色范围达到了66.94%。
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