【摘 要】
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研究了Ni/非晶Si(a-Si)多层组分调制膜(ML)中界面上的固相反应。根据计算的亚稳自由能图,对界面上固相反应形成非晶态进行了热力学与动力学的分析。提出了Ni/a-Si多层膜中的
【机 构】
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中国科学院物理研究所,中国科学院物理研究所,中国科学院物理研究所,中国科学院物理研究所,中国科学院国际材料物理中心 北京 100080,北京 100080,北京 100080,北京 100080,沈阳
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研究了Ni/非晶Si(a-Si)多层组分调制膜(ML)中界面上的固相反应。根据计算的亚稳自由能图,对界面上固相反应形成非晶态进行了热力学与动力学的分析。提出了Ni/a-Si多层膜中的固相反应的动力学模型。
The solid-state reaction at the interface of Ni / amorphous Si (a-Si) multi-layer component modulation film (ML) was investigated. According to the calculated metastable free energy diagram, the thermodynamics and kinetics of the solid state reaction at the interface were analyzed. A kinetic model of solid-state reaction in Ni / a-Si multilayers was proposed.
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