等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究

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为了提高等离子体化学气相沉积(PCVD)涂层的质量,改善基体材料的机械性能,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果,采用先沉积后热处理的新工艺。结构表明,热处理温度对PCVD-TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高,涂层的结果度得到大幅度的改善,涂层内的杂质氯含量降低,涂层的(200)晶面距减小,但在900℃时,PCVD-TiN涂层的显微硬度有一个最低值。
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