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本文采用直流与射频耦合磁控溅射的方法，低温下制备高性能的AZO薄膜，并着重研究靶基距对薄膜结构晶相、表面形貌以及光电性能影响，为AZO薄膜实际应用提供技术指导。
靶基距对低温直流射频耦合磁控溅射制备ZnO：Al薄膜的影响
【摘 要】
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本文采用直流与射频耦合磁控溅射的方法，低温下制备高性能的AZO薄膜，并着重研究靶基距对薄膜结构晶相、表面形貌以及光电性能影响，为AZO薄膜实际应用提供技术指导。
【机 构】
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蚌埠玻璃工业设计研究院
【出 处】
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中国玻璃
【发表日期】
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2016年5期
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