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通过磁控溅射方法制取了一系列不同SiO2厚度的TiAlN／SiO2纳米多层涂层，并用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、高分辨透射电镜（HRTEM）和纳米压痕仪分别对该涂层的微观结构和力学性能进行了表征和测量。研究表明：当非晶态的SiO2厚度约小于1nm时，SiO2在TiAlN模板作用下转变为晶体结构，并与TiAlN呈共格外延生长，出现超硬效应；当SiO2厚度为0．6nm时，其硬度和弹性模量分别高达37GPa和393GPa；当SiO2厚度超过lnm时，SiO2逐渐转变为非晶结构并且破坏了多层涂层的