【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）系统，以CH4和H2为反应气体，在多晶氧化铍陶瓷基体上沉积了金刚石薄膜。采用场发射扫描电子显微镜（FESEM）、原子力显微镜（AFM）和激光热物性测试仪进行检测
【机 构】
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中南大学材料科学与工程学院,中南大学粉末冶金国家重点实验室,中南大学有色金属材料科学与工程教育部重点实验室
【基金项目】
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粉末冶金国家重点实验室开放基金资助项目(2008112048);湖南省研究生创新基金资助项目(1343-74236000005);中南大学贵重仪器开放共享基金资助项目(ZKJ2008001)
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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）系统，以CH4和H2为反应气体，在多晶氧化铍陶瓷基体上沉积了金刚石薄膜。采用场发射扫描电子显微镜（FESEM）、原子力显微镜（AFM）和激光热物性测试仪进行检测分析，研究工艺参数对金刚石薄膜生长及膜／基复合体热学性能的影响。结果表明：随着CH4浓度的增加（或CH4浓度一定，反应气体总流量增加），金刚石晶粒尺寸逐渐减小，膜／基复合体的热导率逐渐降低；当CH4浓度为2％（体积分数），流量为30cm^3／min，压强为1．33kPa时，沉积的膜／基复合体的热导率最高，可达2．6
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