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本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的方法.结果表明,高频部分引起薄膜表面形貌的变化.Cu-W薄膜在溅射时间超过600s时才达到稳定.
基于小波变换的磁控溅射Cu-W薄膜生长表面形貌评价
【摘 要】
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本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的方法.结果表明,高频部分引起薄膜表面形貌的变化.Cu-W薄膜在溅射时间超过600s时才达到稳定.
【机 构】
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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室(西安);兰州铁道学院机械工程系(兰州) 西安交通大学金属材
【出 处】
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中国真空学会薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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2003年11期
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