N/P硅外延片的少子扩散长度测量

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本文提出了用N/P硅外延片的结光电压光谱响应确定N/P硅外延片中少子扩散长度的方法.导出了入射光强1和结光电压V、光吸收系数a的理论关系,其中包含了外延层和衬底少子扩散长度的信息.当N/P硅外延片表面有高温氧化生成的二氧化硅层时,样品的光电压取决于外延结的特性.可以用与表面光电压法同样的测试设备测得I~(?)曲线,从实验上求出了dI/d(a-1)/1(1/a)-1值,由此值从理论图表中定出N型外延区中的空穴扩散长度.对一些N/P硅外延片进行了测试计算,结果表明本文提出的方法是合理的.
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