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根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表明该方法对复杂相移掩模的设计有效，可以减小邻近效
基于凸投影算法的多相位掩模设计原理研究
【摘 要】
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根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都电子科技大学计算机学院
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2001年1期
【基金项目】
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国家重点实验室基金，国家自然科学基金
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