【摘 要】
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<正> 一、前言在六十年代,我国开始用光刻胶制造晶体管集成电路,光学界也很快将这一工艺用于照相刻划了。由于光刻胶具有分辨率高、性能稳定、抗腐蚀力强等优点,所以它在光学
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<正> 一、前言在六十年代,我国开始用光刻胶制造晶体管集成电路,光学界也很快将这一工艺用于照相刻划了。由于光刻胶具有分辨率高、性能稳定、抗腐蚀力强等优点,所以它在光学工业中很有发展前途。在用虫胶照相复制变黑处理制取分划时,线条牢固性不好,需要用玻璃胶合保护。而用光刻胶就可以直接用照相腐蚀铬制取分划,牢固性好而不必用玻璃保护。下面介绍一种以聚乙烯醇肉桂酸酯为光刻胶的照相镀铬分划工艺。二、问题的提出及解决办法众所周知,光刻胶是应集成电路的需要而发展起来的,因此它对于相应的基体（SiO2、Si、Al和其它金属）具有良好的粘结性。但光刻胶聚乙烯醇肉桂酸酯对玻璃的附着力是很差的,经曝光、显影后用水一冲整个膜层就会脱
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