大范围XY微位移平台的交叉耦合效应的研究

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为了减小柔性平台中的阿贝(Abbe)误差和最小化余弦误差。文章介绍了一种通过增材制造(AM)工艺以及立体光刻技术制造,基于聚合物的大范围XY纳米定位器的交叉耦合效应,设计了一种能够在±1.0mm范围运动的XY平台。对于XY和YX轴,AM平台的交叉耦合率分别为3.4%和8.1%,比有限元法估算值1.0%要大得多,这也是造成AM制造公差或材料特性局部不规则的原因。因此AM平台应该定位为反馈控制,以避免交叉耦合效应。实验结果表明,在半径1.0mm和1Hz圆周运动条件下,均方根径向轨迹误差为3.62mm
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