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通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。
移相掩模为光学微细加工技术增添新武器
【摘 要】
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通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术
【机 构】
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机电部第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1991年2期
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