【摘 要】
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以微磁学理论为基础,详细研究了厚度不变,尺寸和间距的变化对Nd2Fe14B图形化点阵磁性能和磁反转过程的影响。结果显示,当点阵厚度（20 nm）和间距（30 nm）保持不变,随着点阵半径的增
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以微磁学理论为基础,详细研究了厚度不变,尺寸和间距的变化对Nd2Fe14B图形化点阵磁性能和磁反转过程的影响。结果显示,当点阵厚度（20 nm）和间距（30 nm）保持不变,随着点阵半径的增大,矫顽力和交换作用能降低,静磁能逐渐增大,磁化过程由一致反转的单畴态过渡到非一致反转的多畴态;保持点阵厚度（20 nm）和点阵半径（30 nm）不变,随着点阵间距的增大,磁耦合相互作用减弱,矫顽力逐渐增大,当间距增大到4050 nm时,磁耦合相互作用基本消失,矫顽力基本不再发生变化。
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