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运用电化学交流阻抗分析(EIS)、电量测定并结合原子力显微镜(AFM)研究了304不锈钢载波钝化膜的生长过程.研究了在交变电场下钝化膜层中微孔的产生及其对膜层生长的作用;并运用钝化膜生长过程中的电量-时间响应和原子力显微镜扫描分析对不锈钢载波钝化膜的生长机理进行验证分析.结果表明:载波钝化膜具有很高的生长速度是由于交变电场对膜层的作用改变了膜层的生长方式,使之不同于直流钝化条件下钝化膜的生长过程.