【摘 要】
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从人眼安全的角度,设计并制备了对1 064nm激光抑制并可用于1 550nm激光测距以及3μm～5μm波段红外成像的滤光膜。选用ZnS、YbF3作为膜料组合、多光谱ZnS作为基底,利用薄膜设计
【机 构】
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中山火炬职业技术学院,重庆大学软件学院,西安应用光学研究所
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从人眼安全的角度,设计并制备了对1 064nm激光抑制并可用于1 550nm激光测距以及3μm～5μm波段红外成像的滤光膜。选用ZnS、YbF3作为膜料组合、多光谱ZnS作为基底,利用薄膜设计软件对薄膜进行了优化设计。膜系设计通过合理的厚度控制和膜层安排,来增强薄膜的机械强度。滤光膜的制备采用了电子束沉积技术,通过离子辅助沉积和真空退火处理技术,进一步提高滤光膜的牢固性。光谱测试表明：在1 064nm处的透射率仅为0.5%,1 550nm处的透过率为99.3%,3μm～5μm波段的平均透过率大于96%,经
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