【摘 要】
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采用循环伏安、计时电势、计时电流以及光学数码显微镜、辉光放电光谱(GD-OES)、X射线荧光光谱分析(XRF)、扫描电镜能谱(SEM-EDS)等技术,研究碱性NH4OH/NH4C1缓冲溶液中镍在
【机 构】
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Faculty of Chemistry, Rzeszów University of Technology, 35-959 Rzeszów, Poland
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采用循环伏安、计时电势、计时电流以及光学数码显微镜、辉光放电光谱(GD-OES)、X射线荧光光谱分析(XRF)、扫描电镜能谱(SEM-EDS)等技术,研究碱性NH4OH/NH4C1缓冲溶液中镍在钢和铜上的电沉积,目的是从弱碱性溶液中获得镍镀层,并优化工艺过程.以镍镀层质量为指标,对电解液组成、pH、温度、电流、电势等工艺参数进行优化.讨论析氢在电沉积过程中的作用,并研究Co作为添加剂的影响.发现少量的Co可以催化Ni沉积过程、改善镀层的质量和颜色.因此,在可能的应用中,应认真考虑Ni/Co共沉积.研究还表明,对于恒电流沉积模式,镀层的质量与极化电势区间的宽度有关,此电势区间宽度由计时电势曲线E=f(t)力在沉积过程刚开始时的部分确定.
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