论文部分内容阅读
近期，上海光机所信息光学实验室研究人员利用国家“十五”和“863”计划集成电路制造装备重大专项“100纳米分辨率步进扫描投影光刻机”的研发平台，对高端光刻机成像质量原位检测技术进行了系统和深入的研究，在高端光刻机投影物镜的轴向像质、垂轴像质、静态与动态像质以及波像差的原位检测技术等领域获得了多项重要研究成果。