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本文重点讨论PVD高纯Al膜制备工艺参数的选择和特性,接着介绍其应用和存在的问题及解决的方法。
PVD A1膜制备及其在PtSi SBIR-CCD中的应用
【摘 要】
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本文重点讨论PVD高纯Al膜制备工艺参数的选择和特性,接着介绍其应用和存在的问题及解决的方法。
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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1987年2期
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