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运用红外技术和高斯函数对红外谱图进行分峰拟合,研究了对NiO在USY分子筛,γ-Al2O3和混合载体上的对NO吸附规律,并推出不同NiO含量时,Ni^2+在这些载体上的分布,结果表明,位于γ-Al2O3表面,USY分筛SI、S1位和SI位的Ni^2+离子吸附NO时,它们的吸附分别为1855-1875、1900和1905cm^-1,NiO在γ-Al2O3的体相和表面间存在分布平衡,久有75%NiO存