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运用红外技术和高斯函数对红外谱图进行分峰拟合，研究了对ＮｉＯ在ＵＳＹ分子筛，γ－Ａｌ２Ｏ３和混合载体上的对ＮＯ吸附规律，并推出不同ＮｉＯ含量时，Ｎｉ＾２＋在这些载体上的分布，结果表明，位于γ－Ａｌ２Ｏ３表面，ＵＳＹ分筛ＳＩ、Ｓ１位和ＳＩ位的Ｎｉ＾２＋离子吸附ＮＯ时，它们的吸附分别为１８５５－１８７５、１９００和１９０５ｃｍ＾－１，ＮｉＯ在γ－Ａｌ２Ｏ３的体相和表面间存在分布平衡，久有７５％ＮｉＯ存