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永磁端引出溅射PIG源进展
永磁端引出溅射PIG源进展
来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lhyu11
【摘 要】
:
介绍了永磁端引出溅射PIG离子源的进展状况,通常它可用于引出气体的与金属的单或多电荷离子,在20-30kV的引出电压下,可引出mA级的气体离子和数十微安的金属离子,功耗小于50W。同时也可用于直接引
【作 者】
:
于金祥
任晓堂
【机 构】
:
北京大学技术物理系
【出 处】
:
原子能科学技术
【发表日期】
:
1996年5期
【关键词】
:
永磁
PIG
离子源
端引出
加速器
Permanent magnet PIG ion source End extraction Metal ions Neg
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介绍了永磁端引出溅射PIG离子源的进展状况,通常它可用于引出气体的与金属的单或多电荷离子,在20-30kV的引出电压下,可引出mA级的气体离子和数十微安的金属离子,功耗小于50W。同时也可用于直接引出某些电子亲合势料强的气体元素,如,H,O,F等的负离子。
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