【摘 要】
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槽栅结构对功率绝缘栅双极晶体管(insulate gate bipolar transistor,IGBD的影响主要是n-漂移区的电导调制而不是对沟道电阻的改善,为了论证这一问题,采用仿真工具Sentaurus
【机 构】
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北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京100124国网智能电网研究院电工新材料及微电子研究所,北京100192
【出 处】
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北京电力电子学会2017电力电子论坛
论文部分内容阅读
槽栅结构对功率绝缘栅双极晶体管(insulate gate bipolar transistor,IGBD的影响主要是n-漂移区的电导调制而不是对沟道电阻的改善,为了论证这一问题,采用仿真工具Sentaurus TCAD,针对600V的Trench IGBT和Planar IGBT两种结构的阻断特性、导通特性和开关特性等进行仿真分析,重点研究了2种结构在导通态时n-漂移区和沟道区各自所占的通态压降的比例以及n-漂移区内的过剩载流子数量.结果表明:2种结构的沟道区压降所占比例较小且相差很少,槽栅结构的n-漂移区内载流子数量远超平面栅结构,电导调制效果更好,即槽栅结构主要是对n-漂移区的电导调制的改善.同时研究了2种IGBT结构的Eoff-VCE(on)折中曲线,发现槽栅IGBT具有更低的通态压降和关断损耗.
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