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quasistatic 一致设计被做为不平表面的粘附描绘有效连贯的地区行为。在一致设计的上下文，为一个不平的接口的一致连贯的地区(HCZ ) 的拖拉对分离关系能在显微镜的粘附和 decohesion 进程期间由于不稳定性是高度摆动的。不稳定性被发现不仅个别地而且一起发生在粘合剂之中微粗糙的接触，导致广泛的精力驱散。基于 HCZ 关系的行为，为在不平表面的粘附描述导致不稳定性的精力驱散的一个框架被建议阐明明显的接口粘附上的粗糙的效果。二个非维的参数，与粗糙形态学有关的伪和与 aw 分发有关的 n，被识别为控