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本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。分析了检测结果和刻蚀机理。
非晶硅基薄膜的等离子体刻蚀光发射谱检测
【摘 要】
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本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。分析了检测结果和刻蚀机理。
【机 构】
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华中理工大学固体电子学系
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1997年2期
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