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光敏聚酰亚胺因其优良的综合性能,被广泛地应用于微电子领域的绝缘层和保护层等。本文综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)的最新研究进展、发展概况,并且分别对负性光敏聚酰亚胺和正性光敏聚酰亚胺的结构、性能、合成方法以及相关材料的实际应用进行了系统的阐述。
光敏聚酰亚胺的研究与应用进展
【摘 要】
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光敏聚酰亚胺因其优良的综合性能,被广泛地应用于微电子领域的绝缘层和保护层等。本文综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)的最新研究进展、发展概况,并且分别对负性光敏聚酰亚胺和正性
【机 构】
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东华大学应用化学系,聚威工程塑料（上海）有限公司,上海迪美高分子材料有限公司
【出 处】
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合成技术及应用
【发表日期】
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2018年03期
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