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通过热蒸发沉积法在常压、900°C高温条件下,合成了氧化锡纳米线结构。利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜及选区电子衍射对样品的表面形貌和微结构进行了表征,X射线衍射、傅里叶变换红外光谱进一步证明所制纳米结构为金红石型氧化锡单晶结构。在77K和300K温度条件下,研究了所制氧化锡纳米线及其在氧气气氛中退火后的光致发光性能。