【摘 要】
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用ＭＯＣＶＤ生长了用于ＧａＡｓ变容二极管的结构材料。分别用ＳｉＨ＿４和ＣＣｌ＿４作为掺杂剂对ＧａＡｓ进行ｎ型和ｐ型掺杂，找到了适合高质量变容管材料的方法．材料用于器件制作，得到了反向击穿电压大于２５Ｖ、电容变化比大于４０的变容
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用ＭＯＣＶＤ生长了用于ＧａＡｓ变容二极管的结构材料。分别用ＳｉＨ＿４和ＣＣｌ＿４作为掺杂剂对ＧａＡｓ进行ｎ型和ｐ型掺杂，找到了适合高质量变容管材料的方法．材料用于器件制作，得到了反向击穿电压大于２５Ｖ、电容变化比大于４０的变容管。
Structural materials for GaAs varactors were grown by MOCVD. SiH_4 and CCl_4 were used as dopants respectively for GaAs n-type and p-type doping, to find a suitable high-quality varactor material method. Materials used for device fabrication, get the reverse breakdown voltage is greater than 25V, the capacitance change ratio greater than 40 varactor.
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