磁控溅射法制备Zn1-xFexO薄膜的微结构及铁磁性研究

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采用射频磁控溅射法在Si衬底上制备了Zn1-xFexO (x =1.0%,3.0%,5.0%)薄膜样品,并利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微(SEM)、X 射线光电子能谱(XPS)对其微结构、表面形貌和化学成分及价态进行分析,结果表明,Zn1-xFexO (x =1.0%,3.0%,5.0%)薄膜晶体结构为c 轴择优生长的六角纤锌矿结构,Fe在晶体中以二价和三价两种价态存在.利用振动样品强磁计(VSM)对样品的铁磁性进行测试,薄膜样品在室温下具有明显的铁磁性,并经分析认为铁磁性来源可能是磁性离子与空位
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