TM掺杂Ⅱ-Ⅳ-V2黄铜矿半导体的电磁性质

来源 :物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yu23344
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni)掺杂的Ⅱ-Ⅳ-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体的电磁性质进行系统计算.结果发现:V和Cr掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),Mn,Fe以及Co掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现反铁磁状态(AFM),而Ni掺杂时,稀磁半导体(DMS)的磁性比较不稳定.其中Cr掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将可能是具有较高居里温度Tc的DMS.当TM-3d电子的t2g态部分被填充时,其掺杂的DMS将出现FM状态;而当TM-3d电子的t2g态全满或者全空时,其掺杂的DMS将出现AFM状态.在(Cd,Mn)GeP2和(Zn,Mn)GeP2中分别掺入电子和空穴载流子,可以发现载流子是否具有TM-3d电子的巡游特性是DMS是否出现FM状态的主要原因.
其他文献
采用真空共蒸发方法制备了CdSxTe1-x多晶薄膜,并用原子力显微镜、x射线衍射和光学透过率谱等研究了CdSxTe1-x多晶薄膜的结构和性质.结果表明:薄膜均匀、致密、无微孔,当x≥0.
采用溶剂热法,利用不同的硅源和铝源合成了富硅的SAPO-11分子筛. 结果显示,与水热法合成的样品相比,溶剂热法合成的Pt/SAPO-11催化剂具有较大的外表面积,同时其硅含量、酸度
为了解决三维分片线性函数的表示问题,提出一个基于三维基函数的绝对值表示理论,建立了一个紧凑绝对值表示模型并构造性地证明了其一般表示能力.因为基函数是比最小退化交更
采用同步辐射能量色散X射线衍射(EDEX)技术和金刚石对顶砧高压装置,对纳米硫化锌球壳进行了原位高压X射线衍射实验.最高压力达33.3 GPa.常压下纳米硫化锌球壳为纤锌矿结构和
提出一种通过非均匀掺铒方法提高光波导放大器增益和抽运效率的优化设计方案 ,并在有限元法基础上构建了光波导放大器模型 .计算中考虑到合作上转换、交叉弛豫和激发态吸收等
采用同步辐射XRD极图法对低温MOCVD生长的GaN缓冲层薄膜进行了研究.极图研究表明,低温GaN薄膜中除有正常结晶外还存在一次孪晶和二次孪晶.在χ固定为55°时的{111}ψ扫描中发
对结构动力响应数值计算问题提出引入多个自由参数来获得所希望的算法特性.多参数的一个明显的好处就是在算法设计上有更大的自由空间.利用这些自由参数获得了两个新的无条件
采用三种等通道转角挤压(ECAP)与热处理相结合的工艺制备了超高强度细晶7050铝合金,应用小角x射线散射技术定量地分析了ECAP过程中显微结构参数的变化情况,合理地解释了ECAP
基于电荷具有离散性的事实对介观电路进行量子化,以介观三环为例研究多环耦合系统中的量子电流增强效应.结果表明,量子电流增强效应不仅存在于耦合双环系统中,而且在金属多环
激光介质的热效应是高平均功率固体激光器面临的最大挑战,采用薄片激光介质是解决热效应的有效手段之一.当在抽运区尺寸远大于薄片厚度并且抽运光均匀分布的条件下,热流近似