AlN-W多层共烧结基片的界面分析

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本文利用光学显微镜和扫描电镜对共烧结多层AlN-W界面特征进行了观察与研究。光学显微镜观察表明:Al-W共烧界面为起伏交错的交联状,AlN和W各自嵌入到对方基体中。SEM进一步观察表明,内交联的界面实现了W层在AlN基体上的附着。界面处无明显的次生相生成。SEM的能谱(EDAX)对界面上的Al和W元素分布进行表明:在几微米的分辨率范围内,既没有W向AlN层的扩散,也没有Al向W层的扩散。通过对剥离W膜界面侧W形貌与自由表面W形貌对比观察表明,共烧界面W的重结晶与晶粒长大受到AlN的制约,晶粒呈小晶粒结构。
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